技术研究领域
我们致力于开发成为未来产业发展的技术。
供应着具有差别化技术力的各种产品和方案,
最大限度的贡献于顾客的稳定成长和发展。
半导体
半导体产业是工程细微化成为主要争议的产业,Soulbrain开发着向工程细微化提供最佳方案的各种产品。
Etchant / Cleaning / Stripper etc.
- High Selective Nitride etchant(SiN/O Selectivity) for 3D gate
- 开发High Selectivity Oxide Etchant, HF/BOE, Cleaning Agent & Stripper
CMP Slurries : Ceria slurry, Silica slurry, etc.
- High Planarity Slurry(ILD/IMD, CST-S22), STI(DRAM & Flash), Wet Ceria
- Cu Barrier Slurry(Alkali, Acidic), W Slurry(2nd step & buffing step)
- Polishing slurry for Packaging(TSV), Nitride/Poly-Si CMP slurry
CVD/ALD Materials
- High-k Precursor : ZrO2, HfO2, TiO2, Y2O3, SrO
- Dielectric precursor : SiO2, SiN
- Metal precursor : TiN, In2O3, Mo
- Functional precursor : growth inhibitor for metal and high-k oxide
开发LED及其他工程用Slurry : Sapphire, Silicone, Nickel, etc.
显示器
集中开发可大幅节俭费用的特殊化学材料及用于开发下一代显示器领域的各种新产品。
Etchant for TFT-LCD & OLED
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Cu Etchant (for H2O2 & non-H2O2)
根据TFT配线厚膜化的微图形用Cu Etchant
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Phosphoric Etchant
开发AI、Mo、Ag等金属单一膜和对此叠层膜的批量蚀刻液
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BOE Etchant (HF/NH4F)
维持一定的药液浓度,具有High Etch Rate的Si专用Etchant
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Pixel Etchant
Low Pattern damage & High Selectivity Etchant for IZO, ITO, MoTi
2次电池
持续性的研究开发2次电池素材和下一代大容量HEV及EV用电解液领域。
Electrolyte for IT, xEV, ESS
- HP(High purity) Grade Solvents : Over 99.9%
- HP Grade Additives : Over 99.0%, Additives are available for customer’s demand
- Solutes : Guaranteed solutes for electrolyte
- Cylinder type : 1L bottle, 18L/200L cylinder
Research Area_ Cathode & Anode materials
功能性材料
应对快速变化的市场需求,持续开发具有各种功能性的有机素材。
开发TFT-LCD及OLED用有机材料
- Negative type Black Matrix(RBM)
- 2nd Passivation用 organic insulator(Posi. & Nega. Type)
- 开发复合素材(black matrix & column spacer、BM on array等)
- 开发ITO代替有机导电膜
- Over Coat materials for TSP(Metal Mesh) electrode of LCD BM(Heat-Resistant)
- Scattering Photo-Resist materials for OLED
Research Area _ Flexible & Transparent Display
- Low Temperature Curing Insulator(<120 degree) for Flexible Display
- Polymer electrolyte for Transparent Display