솔브레인은 2013년 1월 30일부터 2월 1일까지 서울 코엑스에서 개최되는 국내 최대 규모의 반도체 재료장비 전시회인 세미콘코리아(SEMICON Korea) 2013에 참가하여 솔브레인이 보유하고 있는 반도체 관련 기술, 제품을 관련 산업 종사자에게 선보였다.

특히 솔브레인은 금번 전시회에서 반도체 공정 기술의 화두라고 할 수 있는 공정 미세화 및 고집적화에 대한 대응 전략으로 준비하여 왔던 신규 제품으로 고선택비 인산(High Selectivity Phosporic Acid), 전해이온수 시스템, HPS(High Planarity Slurry) 등을 중점적으로 소개하였다.

먼저 고선택비 인산은 반도체 공정의 고집적화에 따라 SIN/Oxide etch 공정에서 높은 수준의 선택비가 필요해졌으며 이에 1990년대부터 많은 업체들이 고선택비의 제품을 개발하였으나 성공적인 성과를 거두지 못하였으나 솔브레인에서 SIN/Oxide 고선택비 인산을 세계 최초로 개발하였다. 고선택비 인산은 첨가제의 농도에 따라 선택비를 조절할 수 있으며 기존 인산공정 대비 우수한 Life Time을 가지고 있다.

전해이온수 시스템은 반도체 세정 공정 등에 사용되는 DI Water를 전기 분해하여 알칼리 이온수로 생성하는 장치로서 이는 뛰어난 계면활성 효과를 갖고 있다. 솔브레인이 개발한 전해이온수 시스템은 반도체 미세화에 따라 더욱 문제가 되고 있는 미세 particle 증가, 화학 세정액을 사용할 수 없는 공정 발생 등의 문제를 해결할 수 있을 것으로 기대를 모으고 있으며 반도체 분야 외에도 FPD(Flat Panel Display) 등 다양한 분야로 응용 개발이 진행되고 있다.

HPS(High Planarity Slurry)는 솔브레인이 보유하고 있는 다양한 Slurry 제품 중, 웨이퍼의 전면 평탄화 특성이 매우 우수한 Ceria Slurry로서 전 공정의 자동화 품질관리 시스템 운용으로 우수한 성능 재현성이 특성이다. 또한 고단차 산화막에서 높은 평탄화 특성을 나타내며 scratch발생이 매우 적어 device 수율을 크게 향상 시킬 수 있다.

솔브레인은 세미콘코리아 2009부터 세미콘코리아 2013까지 매 해 전시회에 참가하여 솔브레인의 연구개발 현황, 제품을 지속적으로 소개하여 왔으며 금번 세미콘코리아 2013에는 반도체 관련 제품 외에도 LED, Solar, 디스플레이 등 다양한 분야의 제품 및 최근 설립한 합작법인인 솔브레인시그마알드리치에 대한 내용도 소개하였다.