RESEARCH & DEVELOPMENT
BUILDING A BETTER FUTURE THROUGH CONVERGENCE
技術開発成果
2010
- 04 RFID タグ用アンテナ及びタグ開発
- 06 Glass Etching Chemical開発
2011
- 03 n+ Wet Etchant開発
- 06 ZAC開発完了
- 07 GEL polymer 電解液開発
2012
- 06 改善Cu/Mo etchant開発
- 06 改善n+ Wet Etchant開発
- 12 BOE etchant開発
2013
- 10 HPS用スラリー開発
- 12 Note向け合紙プリズム開発
- 12 HSN R2.0 Etchant開発
- 12 APE Etchant開発
- 12 SPAN Etchant開発
2014
- 04 Glass Edge Grinding Wheel開発
- 04 TSP ベゼル電極用Ag Paste開発
- 08 LCD用Cu Etchant (微細パターン用/ New Pixel用) 開発
- 12 透明電極用Silver Nano Wireコーティング液開発
- 12 Tablet向け合紙プリズム開発
2015
- 01 LCD用New PXL Etchant開発
- 02 OLED Low Taper用Cu Etchant開発
- 06 New BOE Etchant開発
- 07 LCD用New Cu Etchant開発
- 07 Glare Pol. 合紙プリズム開発
- 09 WEA 2.0開発
2016
- 01 Touch Panel用ITO Etchant開発
- 02 W Touch用Slurry開発
- 06 Solar Cell用Metal Etchant開発
- 07 Notebook用高輝度合紙Prism開発
- 09 TSV 工程用Slurry開発
2017
- 10 中大型電解液用造成開発
2018
- 09 DRAM Capacitor 前駆体開発
2019
- 08 3nm Logic向Etchant 開発
2020
- 06 Poly buffing Slurry開発
2001
- 08 MoW Etchant開発
- 09 Metal CMP開発
- 10 Cu/Ti Etchant開発
2002
- 11 ILD Slurry開発
- 12 生産技術研究所 (公州) 竣工
2003
- 11 LCD用Cr Etchant開発
- 11 Cu/Mo Etchant開発
2004
- 02 IZO Etchant開発
2005
- 04 龍仁研究所開設
- 04 W Cleaning Agent開発
- 08 改善Cu/Mo Etchant開発
2006
- 01 世界初の廃Al etchant量産設備で再生リン酸生産
2007
- 03 LSW Slurry開発
- 11 銅研磨Slurry開発
2008
- 10 TFT 基板とカラーフィルター基板が合わされたガラス製造方法開発
2009
- 08 Wafer Thinning用Si Etchant開発
- 08 図書管理用RFIDインレイ開発
- 10 改善リン酸 (HSN) Etchant開発
1994
- 09 企業付設研究所設立 (韓国産業技術振興協会)
1998
- 06 中小企業庁技術革新開発課題遂行、次世代半導体用MOCVD Source