본문 바로가기
타이틀
메뉴
企业介绍
企业介绍
问候语
目标&展望
沿革
CI介绍
经营场所介绍
子公司
经营范围
半导体材料产业
显示器材料产业
二次电池材料产业
电子材料产业
R&D
中央研究所介绍
技术开发成果
技术研究领域
IR/PR
企业组织机构
公告信息
股价信息
财务信息
e-BROCHURE
ESG
伦理经营
品质经营
环境安全保健经营
革新经营
双赢经营
社会贡献
可持续经营报告书
招聘资讯
人事哲学
福利
职位介绍
招聘信息
HOME
CONTACT US
CN
CN
KOR
EN
JAP
HOME
CONTACT US
CN
CN
KOR
EN
JAP
企业介绍
企业介绍
问候语
目标&展望
沿革
CI介绍
经营场所介绍
子公司
经营范围
半导体材料产业
显示器材料产业
二次电池材料产业
电子材料产业
R&D
中央研究所介绍
技术开发成果
技术研究领域
IR/PR
企业组织机构
公告信息
股价信息
财务信息
e-BROCHURE
ESG
伦理经营
品质经营
环境安全保健经营
革新经营
双赢经营
社会贡献
可持续经营报告书
招聘资讯
人事哲学
福利
职位介绍
招聘信息
RESEARCH & DEVELOPMENT
BUILDING A BETTER FUTURE THROUGH CONVERGENCE
HOME
R&D
企业介绍
经营范围
R&D
IR/PR
ESG
招聘资讯
技术开发成果
中央研究所介绍
技术开发成果
技术研究领域
技术开发成果
2010年代
2000年代
1990年代
2010
04
开发RFID Tag用天线及Tag
06
开发Glass Etching Chemical
2011
03
开发n+ Wet Etchant
06
完成开发ZAC
07
开发GEL polymer电解液
2012
06
开发改善Cu/Mo etchant
06
开发改善n+ Wet Etchant
12
开发BOE etchant
2013
10
开发HPS用Slurry
12
开发Note向Syndactyly Prism
12
开发HSN R2.0 Etchant
12
开发APE Etchant
12
开发SPAN Etchant
2014
04
开发Glass Edge Grinding Wheel
04
开发TSP Bezel电极用Ag Paste
08
开发LCD用Cu Etchant(微图形用/New Pixel用)
12
开发透明电极用Silver Nano Wire涂层液
12
开发Tablet向Syndactyly Prism
2015
01
开发LCD用New PXL Etchant
02
开发OLED Low Taper用Cu Etchant
06
开发New BOE Etchant
07
开发LCD用New Cu Etchant
07
开发Glare Pol. Syndactyly Prism
09
开发WEA2.0
2016
01
开发Touch Panel用ITO Etchant
02
开发W Touch用Slurry
06
开发Solar Cell用Metal Etchant
07
开发Notebook用高辉度Syndactyly Prism
09
开发TSV工程用Slurry
2017
10
开发中大型电解液用组成
2018
09
开发DRAM Capacitor前驱物质
2019
08
3nm Logic用 Etchant 开发
2020
06
Poly buffing slurry 开发
2001
08
开发MoW Etchant
09
开发Metal CMP
10
开发Cu/Ti Etchant
2002
11
开发ILD Slurry
12
生产技术研究所(公州)竣工
2003
11
开发LCD用Cr Etchant
11
开发Cu/Mo Etchant
2004
02
开发IZO Etchant
2005
04
成立龙仁研究所
04
开发W Cleaning Agent
08
开发改善Cu/Mo Etchant
2006
01
生产世界最初废Al etchant量产设备再生磷酸
2007
03
开发LSW Slurry
11
开发铜研磨Slurry
2008
10
开发出TFT基板和Color Filter基板相互合成的Glass制造方法
2009
08
开发Wafer Thinning用Si Etchant
08
开发图书管理用RFID Inlay
10
开发改善磷酸(HSN) Etchant
1994
09
成立企业附属研究所(韩国产业技术振兴协会)
1998
06
施行中小企业厅技术创新开发课题,下一代半导体用MOCVD Source
TOP