RESEARCH & DEVELOPMENT
BUILDING A BETTER FUTURE THROUGH CONVERGENCE
技术开发成果
2010
- 04 开发RFID Tag用天线及Tag
- 06 开发Glass Etching Chemical
2011
- 03 开发n+ Wet Etchant
- 06 完成开发ZAC
- 07 开发GEL polymer电解液
2012
- 06 开发改善Cu/Mo etchant
- 06 开发改善n+ Wet Etchant
- 12 开发BOE etchant
2013
- 10 开发HPS用Slurry
- 12 开发Note向Syndactyly Prism
- 12 开发HSN R2.0 Etchant
- 12 开发APE Etchant
- 12 开发SPAN Etchant
2014
- 04 开发Glass Edge Grinding Wheel
- 04 开发TSP Bezel电极用Ag Paste
- 08 开发LCD用Cu Etchant（微图形用/New Pixel用）
- 12 开发透明电极用Silver Nano Wire涂层液
- 12 开发Tablet向Syndactyly Prism
2015
- 01 开发LCD用New PXL Etchant
- 02 开发OLED Low Taper用Cu Etchant
- 06 开发New BOE Etchant
- 07 开发LCD用New Cu Etchant
- 07 开发Glare Pol. Syndactyly Prism
- 09 开发WEA2.0
2016
- 01 开发Touch Panel用ITO Etchant
- 02 开发W Touch用Slurry
- 06 开发Solar Cell用Metal Etchant
- 07 开发Notebook用高辉度Syndactyly Prism
- 09 开发TSV工程用Slurry
2017
- 10 开发中大型电解液用组成
2018
- 09 开发DRAM Capacitor前驱物质
2019
- 08 3nm Logic用 Etchant 开发
2020
- 06 Poly buffing slurry 开发
2001
- 08 开发MoW Etchant
- 09 开发Metal CMP
- 10 开发Cu/Ti Etchant
2002
- 11 开发ILD Slurry
- 12 生产技术研究所（公州）竣工
2003
- 11 开发LCD用Cr Etchant
- 11 开发Cu/Mo Etchant
2004
- 02 开发IZO Etchant
2005
- 04 成立龙仁研究所
- 04 开发W Cleaning Agent
- 08 开发改善Cu/Mo Etchant
2006
- 01 生产世界最初废Al etchant量产设备再生磷酸
2007
- 03 开发LSW Slurry
- 11 开发铜研磨Slurry
2008
- 10 开发出TFT基板和Color Filter基板相互合成的Glass制造方法
2009
- 08 开发Wafer Thinning用Si Etchant
- 08 开发图书管理用RFID Inlay
- 10 开发改善磷酸(HSN) Etchant
1994
- 09 成立企业附属研究所（韩国产业技术振兴协会）
1998
- 06 施行中小企业厅技术创新开发课题，下一代半导体用MOCVD Source