RESEARCH & DEVELOPMENT
BUILDING A BETTER FUTURE THROUGH CONVERGENCE
기술개발 성과
2020
- 01 신규 In 전구체 개발
- 06 Poly buffing slurry 개발
- 07 growth inhibitor, growth activator 개발
- 08 High-Ni向 전해액 조성 개발
2021
- 06 Si向 전해액 조성 개발
2022
- 06 고온용 growth inhibitor 개발
2023
- 10 신규 Ga 전구체 개발
2010
- 04 RFID 태그용 안테나 및 태그 개발
- 06 Glass Etching Chemical 개발
2011
- 03 n+ Wet Etchant 개발
- 06 ZAC 개발완료
- 07 GEL polymer 전해액 개발
2012
- 06 개선 Cu/Mo etchant 개발
- 06 개선 n+ Wet Etchant 개발
- 12 BOE etchant 개발
2013
- 10 HPS용 슬러리 개발
- 12 Note향 합지프리즘 개발
- 12 HSN R2.0 Etchant 개발
- 12 APE Etchant 개발
- 12 SPAN Etchant 개발
2014
- 04 Glass Edge Grinding Wheel 개발
- 04 TSP 베젤전극용 Ag Paste 개발
- 08 LCD용 Cu Etchant (미세패턴용 / New Pixel용) 개발
- 12 투명전극용 Silver Nano Wire 코팅액 개발
- 12 Tablet향 합지프리즘 개발
2015
- 01 LCD용 New PXL Etchant 개발
- 02 OLED Low Taper용 Cu Etchant 개발
- 06 New BOE Etchant 개발
- 07 LCD용 New Cu Etchant 개발
- 07 Glare Pol. 합지프리즘 개발
- 09 WEA 2.0 개발
2016
- 01 Touch Panel용 ITO Etchant 개발
- 02 W Touch용 Slurry 개발
- 06 Solar Cell용 Metal Etchant 개발
- 07 Notebook용 고휘도 합지 Prism 개발
- 09 TSV 공정용 Slurry 개발
2017
- 10 중대형 전해액용 조성 개발
2018
- 09 DRAM Capacitor 전구체 개발
2019
- 08 3nm Logic 向 Etchant 개발
2001
- 08 MoW Etchant 개발
- 09 Metal CMP 개발
- 10 Cu/Ti Etchant 개발
2002
- 11 ILD Slurry 개발
- 12 생산기술연구소(공주) 준공
2003
- 11 LCD용 Cr Etchant 개발
- 11 Cu/Mo Etchant 개발
2004
- 02 IZO Etchant 개발
2005
- 04 용인 연구소 개설
- 04 W Cleaning Agent 개발
- 08 개선 Cu/Mo Etchant 개발
2006
- 01 세계최초 폐 Al etchant 양산설비 재생인산 생산
2007
- 03 LSW Slurry 개발
- 11 구리연마 Slurry 개발
2008
- 10 TFT 기판과 컬러필터 기판이 합장된 글라스의 제조방법 개발
2009
- 08 Wafer Thinning용 Si Etchant 개발
- 08 도서관리용 RFID 인레이 개발
- 10 개선인산(HSN) Etchant 개발
1994
- 09 기업부설연구소 설립 (한국산업기술진흥협회)
1998
- 06 중기청 기술혁신개발과제 수행, 차세대 반도체용 MOCVD Source