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기술개발 성과
중앙연구소 소개
기술개발 성과
기술연구분야
기술개발 성과
2020년대
2010년대
2000년대
1990년대
2020
01
신규 In 전구체 개발
06
Poly buffing slurry 개발
07
growth inhibitor, growth activator 개발
08
High-Ni
向
전해액 조성 개발
2021
06
Si
向
전해액 조성 개발
2022
06
고온용 growth inhibitor 개발
2023
10
신규 Ga 전구체 개발
2010
04
RFID 태그용 안테나 및 태그 개발
06
Glass Etching Chemical 개발
2011
03
n+ Wet Etchant 개발
06
ZAC 개발완료
07
GEL polymer 전해액 개발
2012
06
개선 Cu/Mo etchant 개발
06
개선 n+ Wet Etchant 개발
12
BOE etchant 개발
2013
10
HPS용 슬러리 개발
12
Note향 합지프리즘 개발
12
HSN R2.0 Etchant 개발
12
APE Etchant 개발
12
SPAN Etchant 개발
2014
04
Glass Edge Grinding Wheel 개발
04
TSP 베젤전극용 Ag Paste 개발
08
LCD용 Cu Etchant (미세패턴용 / New Pixel용) 개발
12
투명전극용 Silver Nano Wire 코팅액 개발
12
Tablet향 합지프리즘 개발
2015
01
LCD용 New PXL Etchant 개발
02
OLED Low Taper용 Cu Etchant 개발
06
New BOE Etchant 개발
07
LCD용 New Cu Etchant 개발
07
Glare Pol. 합지프리즘 개발
09
WEA 2.0 개발
2016
01
Touch Panel용 ITO Etchant 개발
02
W Touch용 Slurry 개발
06
Solar Cell용 Metal Etchant 개발
07
Notebook용 고휘도 합지 Prism 개발
09
TSV 공정용 Slurry 개발
2017
10
중대형 전해액용 조성 개발
2018
09
DRAM Capacitor 전구체 개발
2019
08
3nm Logic
向
Etchant 개발
2001
08
MoW Etchant 개발
09
Metal CMP 개발
10
Cu/Ti Etchant 개발
2002
11
ILD Slurry 개발
12
생산기술연구소(공주) 준공
2003
11
LCD용 Cr Etchant 개발
11
Cu/Mo Etchant 개발
2004
02
IZO Etchant 개발
2005
04
용인 연구소 개설
04
W Cleaning Agent 개발
08
개선 Cu/Mo Etchant 개발
2006
01
세계최초 폐 Al etchant 양산설비 재생인산 생산
2007
03
LSW Slurry 개발
11
구리연마 Slurry 개발
2008
10
TFT 기판과 컬러필터 기판이 합장된 글라스의 제조방법 개발
2009
08
Wafer Thinning용 Si Etchant 개발
08
도서관리용 RFID 인레이 개발
10
개선인산(HSN) Etchant 개발
1994
09
기업부설연구소 설립 (한국산업기술진흥협회)
1998
06
중기청 기술혁신개발과제 수행, 차세대 반도체용 MOCVD Source
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